ASML isporučuje drugi High-NA EUV litografski sustav neimenovanom klijentu

Gartner predviđa da će globalna IT potrošnja u 2024. porasti 8%

Druga generacija štita nevidljivosti dostupna na Kickstarteru

Published by on 21/04/2024

Categories

BUG Vijesti

Tags

ASML je u srijedu 17. travnja objavio da je počeo isporučivati svoj drugi High-NA EUV litografski sustav, nakon Intela, drugom kupcuRead More

Comments are closed.